《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志好发表吗?

来源:优发表网整理 2026-07-07 16:28:47 448人看过

《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志是一本专注于物理与天体物理领域的期刊,发表难度因多种因素而异,以下是具体分析:

《微/纳米光刻、MEMS 和 MOEMS 杂志》(JM3)发表同行评审的论文,内容涉及光刻、制造、封装和集成技术的科学、开发和实践,这些技术对于满足电子、微机电系统、微光机电系统和光子学行业的需求必不可少。

发表难度

影响因子与分区:《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志的影响因子为2.3,属于JCR分区Q3区,中科院分区中大类学科物理与天体物理为3区, 小类学科工程电子与电气工程:电子与电气为4区,较高的影响因子和较好的分区表明其在学术界具有较高的影响力和认可度,因此对稿件的质量要求也相对较高,发表难度较大。

历年IF值(影响因子):

WOS分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 221 / 369

40.2

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 336 / 472

28.9

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 116 / 148

22

学科:OPTICS SCIE Q3 68 / 129

47.7

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 250 / 371

32.75

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 328 / 473

30.76

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 104 / 148

30.07

学科:OPTICS SCIE Q3 93 / 129

28.29

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 252 / 352

28.6

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 338 / 438

22.9

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 115 / 140

18.2

学科:OPTICS SCIE Q3 82 / 119

31.5

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 255 / 354

28.11

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 311 / 438

29.11

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 103 / 140

26.79

学科:OPTICS SCIE Q3 88 / 120

27.08

名词解释:
WOS即Web of Science,是全球获取学术信息的重要数据库,Web of Science包括自然科学、社会科学、艺术与人文领域的信息,来自全世界近9,000种最负盛名的高影响力研究期刊及12,000多种学术会议多学科内容。给期刊分区时会按照某一个学科领域划分,根据这一学科所有按照影响因子数值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影响因子值高的就会在高分区中,最后的划分结果分别是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表质量最高。

审稿周期预计:平均审稿速度较慢,6-12周,审稿周期也体现了编辑部对稿件质量的严格把关。

发表建议

提高稿件质量:确保研究内容具有创新性和学术价值,语言表达清晰准确,符合杂志工程:电子与电气的格式和要求。

提前准备:根据审稿周期,建议作者提前规划好研究和写作进度,以便有足够的时间进行修改和补充。同时,可以关注《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》杂志的约稿信息,如果能够获得约稿机会,发表的可能性会更大。

声明:以上内容来源于互联网公开资料,如有不准确之处,请联系我们进行修改。

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