ICP-MS检测多晶硅表金属杂质的研究
作者： 多晶硅国家工程实验室分析测试中心; 洛阳471000
摘要：应用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS),对多晶硅料块表面金属杂质Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素进行检测。本文研究了样品的处理方法,确定了适宜的实验条件,使用该方法能准确、快速的检测多晶硅表面的金属杂质含量,适用于商用实验室中的检测,符合企业中工业化的检测需求。其检测方法对多晶硅中的金属杂质Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素的检出限达到0. 01ng/g左右,精密度较好,Fe的加标溶液的回收率为90!109%,满足痕量杂质检测的要求。
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