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PI/NiO/g-C3N4复合光催化剂的制备及其对甲基橙的光催化降解

作者:朱世侦; 王清; 毛洁; 周娅芬 西华师范大学化学化工学院; 四川南充637009; 西华师范大学化学合成与污染控制四川省重点实验室; 四川南充637009

摘要:合成了复合光催化剂PI/NiO/g-C3N4,并进行了扫描电镜(SEM)、x射线衍射(XRD)和傅里叶变换红外光谱(FT-IR)等表征。通过在紫外-可见光下降解甲基橙染料,研究了其光催化活性及反应机理。在染料浓度为20mg/L、催化剂用量为1g/L、光照时间15min时,15%PI/NiO/g-C3N4光催化剂对甲基橙染料的降解率达到97.6%。循环实验表明,经过3次循环后,降解率略有下降,说明复合光催化剂具有较高的光催化稳定性。自由基捕获实验表明,光催化降解过程中主要的活性物种为超氧阴离子自由基(·O2-1),同时羟基自由基(·OH)和光生空穴(h+)也参与了光催化活动。

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西华师范大学学报·哲学社会科学版

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