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《Ieee Electron Device Letters》杂志的收稿范围和要求是什么?

来源:优发表网整理 2026-07-07 16:20:42 1581人看过

《Ieee Electron Device Letters》杂志收稿范围涵盖工程技术全领域,此刊是该细分领域中属于非常不错的SCI期刊,在行业细分领域中学术影响力较大,专业度认可很高,所以对原创文章要求创新性较高,如果您的文章质量很高,可以尝试。

平均审稿速度约1.3个月,影响因子指数4.6。

该期刊近期没有被列入国际期刊预警名单,广大学者值得一试。

具体收稿要求需联系杂志社或者咨询本站客服,在线客服团队会及时为您答疑解惑,提供针对性的建议和解决方案。

出版商联系方式:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141

其他数据

是否OA开放访问: h-index: 年文章数:
未开放 135 550
Gold OA文章占比: 2021-2022最新影响因子(数据来源于搜索引擎): 开源占比(OA被引用占比):
2.21% 4.6 0.05...
研究类文章占比:文章 ÷(文章 + 综述) 期刊收录: 中科院《国际期刊预警名单(试行)》名单:
100.00% SCI、SCIE

历年IF值(影响因子):

历年引文指标和发文量:

历年中科院JCR大类分区数据:

历年自引数据:

发文统计

2023-2024国家/地区发文量统计:

国家/地区 数量
CHINA MAINLAND 577
USA 282
South Korea 174
Taiwan 123
Japan 65
England 60
India 49
Belgium 37
GERMANY (FED REP GER) 37
France 32

2023-2024机构发文量统计:

机构 数量
CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 84
UNIVERSITY OF CALIFORNIA SYSTEM 70
XIDIAN UNIVERSITY 56
NATIONAL YANG MING CHIAO TUNG UN... 49
HONG KONG UNIVERSITY OF SCIENCE ... 48
PEKING UNIVERSITY 42
UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE... 42
INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY S... 36
IMEC 35
NATIONAL SUN YAT SEN UNIVERSITY 35

近年引用统计:

期刊名称 数量
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
IEEE T ELECTRON DEV 865
APPL PHYS LETT 812
J APPL PHYS 318
ADV MATER 217
NANO LETT 150
ACS APPL MATER INTER 142
SCI REP-UK 138
NATURE 132
APPL PHYS EXPRESS 119

近年被引用统计:

期刊名称 数量
IEEE T ELECTRON DEV 1587
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
JPN J APPL PHYS 594
APPL PHYS LETT 460
IEEE J ELECTRON DEVI 445
APPL PHYS EXPRESS 366
SEMICOND SCI TECH 277
J APPL PHYS 268
SOLID STATE ELECTRON 257
ECS J SOLID STATE SC 249

近年文章引用统计:

文章名称 数量
Enhancement-Mode Ga2O3 Vertical ... 38
An Artificial Neuron Based on a ... 36
Recessed-Gate Enhancement-Mode b... 28
Spin Logic Devices via Electric ... 27
Current Aperture Vertical beta-G... 27
beta-Ga2O3 Delta-Doped Field-Eff... 26
Vertical Ga2O3 Schottky Barrier ... 24
1.85 kV Breakdown Voltage in Lat... 24
Vertical Ga(2)O(3 )Schottky Barr... 23
First Demonstration of a Logic-P... 22

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