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首页 > 期刊 > 电子设计应用 > 回望摩尔定律40年 【正文】

回望摩尔定律40年

作者:望月洋介 《日经电子》编辑部

摘要:市场调研公司iSuppli于今年6月16日发表了一份报告指出,1965年出现的摩尔定律在20nm~18nm工艺之间仍然有效,但2014年达到18nm之后将很可能失效。报告中指出,摩尔定律的失效原因并不在于工艺的微细化无法继续,而是由于芯片制造成本过高,在产品生命周期内无法收回成本。而且,消费者也不需要速度如此之快的芯片,即芯片在实用性上已达到极限。无论如何,这在业界引发了一番热论。 《日经电子》1000期纪念专辑的首篇文章就是《回望摩尔定律40年》。文章详尽介绍了摩尔定律的发展历史,并进行了展望,很有助于我们对摩尔定律的认知和思辨。因此,本期特刊载这篇文章与读者共享。

注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社。

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