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GCr15轴承内圈磁粒研磨光整实验

作者:刘冬冬; 韩冰; 陈燕; 胡玉刚 辽宁科技大学机械工程与自动化学院; 辽宁鞍山114051

摘要:利用磁粒研磨加工工艺对轴承内圈进行光整加工实验,以降低其表面粗糙度值为目的,通过AnsoftMaxwell磁场模拟软件对磁极三种形状进行仿真分析,得到磁极开轴向槽磁场强度大,在此基础上研究了磨料粒径、磁极转速和研磨液用量对表面粗糙度值的影响。结果表明:当磨料粒径为185μm时,磁极转速为600r/min、研磨液用量为6mL,光整加工60min,轴承内圈的表面粗糙度值由原始的0.51μm下降至0.10μm,表面的划痕、刀微纹基本全部去除,表面形貌的均匀性较好,表面的显微硬度由原始的820HV变为了900HV,研磨后的表面强度增加了。

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国际刊号:1001-3849

国内刊号:12-1096/TG

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