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钛铌酸锶膜光敏传感元件的制备与特性分析

作者:廖荣; 刘慧君; 柯嘉聪; 李涌春; 廖鸿韬; 罗志勇 华南理工大学电子与信息学院; 广东广州510640

摘要:利用镀膜技术和硅平面工艺在经过干氧氧化的硅衬底上制备一层钛铌酸锶(Sr NbxTi1-xO3)薄膜,然后制备成平面型薄膜光敏传感器。对钛铌酸锶薄膜的吸收光谱进行测定,得到其禁带宽度为2. 70 e V,对可见光有良好的敏感性。样品在稳定光照下,光电流随照度的增大而增大;温度对光敏特性影响很大,本传感器适用于稳定光照和室温下使用。

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传感器与微系统

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国际刊号:2096-2436

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